全球半导体设备行业龙头专题（二）：细品刻蚀龙头拉姆研究，略窥国内刻蚀设备公司路在何方？

1 本报告版权属于安信证券股份有限公司。 各项声明请参见报告尾页。 全球半导体设备龙头专题（二） ■写在前面：中微半导体登陆科创板，国产刻蚀机将如何崛起？中微半导体是国内顶尖的刻蚀设备厂商，在国家政策的扶持下技术日益精进，2019年6月20日中微半导体成功过会，7月22日其股票正式在科创板进行交易，其主流刻蚀技术已达国际水平，但其市场占有率极低。国际半导体设备市场被五大巨头所垄断，本次专题专注于刻蚀机领域龙头拉姆研究，其蚀刻设备市场份额高达近55%，本文对拉姆研究的发展历程、核心技术、产品优势、市场份额等进行深度分析，探究拉姆研究如何成就全球刻蚀机市场超过50%的占有率，找寻国内刻蚀机领域产业的投资机会。 ■浅显之见：从光刻霸主阿斯麦到刻蚀龙头拉姆研究，两大巨头都通过自主研发+战略并购路线，打造其核心技术护城河，拉姆研究还通过差异化产品策略、成熟的DRIE和前沿的ALE技术、强大的核心团队、优质的大客户四大优势，逐步占据刻蚀领域半壁江山。反观国内中微半导体等刻蚀设备龙头厂商，其在核心技术上已取得重大突破，制程节点也紧跟世界步伐，凭借独特的政策、地理、服务、价格等优势，有望快速崛起。 ■纵观历史，如何从产品销售到全球战略整合？据VLSI Research统计，拉姆研究是全球第四大半导体设备及第一大刻蚀设备提供商，主要为薄膜沉积、刻蚀、去胶和清洗环节提供尖端的设备与解决方案，其刻蚀设备占据近55%的市场份额。拉姆研究成立于1980年，已有近40年的历史，成立后拉姆研究紧密地进行了市场扩张和技术研发，其全球市场扩张之路从产品销售到战略整合，逐步深入，先后打通韩国、中国大陆、中国台湾、日本等市场。拉姆研究在发展过程中打造了技术、产品、团队、客户四大优势，于2018财年营业收入达110.77亿美元，同比增长38%，净利润达29.85亿美元，同比增长80%。（营收、净利润为经调整后的数据，Bloomberg） ■深究内核，如何内外兼修铸就技术护城河？拉姆研究内外兼修，一方面依靠自身巨大的研发投入和强大的研发团队，自主研发核心技术，走在半导体设备的技术前沿，开创多个行业标准，如其KIYO系列创造了业内最高生产力、选择比等多项记录，其ALTUS MaxE系列采用业界首款低氟钨ALD工艺，被视作钨原子层沉积的行业标杆。另一方面，拉姆研究通过并购和整合攫取了产业链外围先进技术、扩充了研发团队、拓展了产品链条，持续助力新技术的研发；拉姆研究先后收购On Trak Systems，扩充清洁领域产品链条；收购Bullen Semiconductor，为腔室提供高性能关键部件；收购SEZ AG，扩充前沿清洁解决方案；收购Novellus Systems，打通创新的薄膜沉积和表面处理产品线；收购Coventor，助力7纳米刻蚀设备的研制。 ■细看产品，如何打造强大产品竞争优势？拉姆研究的产品兼具技术领先与产品差异化优势。1）技术领先优势尤为明显：拉姆研究在3D Scaling领域处于领导地位。在薄膜沉积领域，其ALTUS系列铸就钨薄膜生产率的行业基准。在刻蚀设备中，DRIE与ICP是目前的主流技术，除此之外拉姆研究首创ALETable_Tit le 2019年09月18日 细品刻蚀龙头拉姆研究，略窥国内刻蚀设备公司路在何方？ Table_BaseI nfo 新三板主题报告 证券研究报告 诸海滨 分析师 SAC执业证书编号：S1450511020005 zhuhb@essence.com.cn 021-35082086 Tabl e_Repor t 相关报告 中美两国癌症患者数据概览：哪些癌症类型最常见？ 2019-08-14 龙冈旅游：争创5A景区，发力研学旅行，业绩稳步增长 2019-08-13 新三板日报（新三板上半年市场出清有序 并购重组环境预期向好） 2019-08-13 司 南 导 航 ： 高 精度 北 斗/GNSS应用向大众应用领域渗透，业绩稳步增长 2019-08-12 2019年秋季部编版教材实施，孕育哪些投资机会？——全市场教育策略报告 2019-08-12 22546684/16850/20190918 14:42 2 本报告版权属于安信证券股份有限公司。 各项声明请参见报告尾页。 技术，实现了原子层级别的可变控制性和业内最高选择比，ALE技术有望成为下一代刻蚀设备的产业趋势。其Flex™ 系统提供业界首创的电介质ALE生产工艺，其KIYO系列创造业内生产力最高记录。在清洁设备中，拉姆研究推出的CORONUS系列是业内首款也是唯一的斜面清洁产品。2）产品差异化优势突出：其提供的产品种类十分丰富，有明显的差异化特征，能满足不同客户的诉求，有集合多款超高技术、业内最高生产率的KIYO系列，也有成本较低的翻新RELIANT等系列。 ■回归数据，公司业绩如何实现稳步增长？拉姆研究的营业收入、净利润总体呈上升趋势，可分为三个阶段。缓慢增长期：1987-1993财年，营收保持在3亿美元以内。波动增长期：1994-2009财年，营收呈现三次周期性波动，从5亿美元增长到20亿美元左右，净利润仍旧时正时负。快速增长期：2010-2018财年，营收从20亿美元达到110亿美元，复合增长率高达23%，净利润复合增长率达30%。其毛利率一直稳定在45%上下，净利率则波动较大。2018财年，拉姆研究的营业收入实现了六连增，首次突破100亿美元，达110.77亿美元，同比增长38%，净利润首次突破20亿美元达29.85亿美元，同比增长80%，毛利率、净利率分别达47%、27%。（营收、净利润、毛利率、净利率均为经调整后的数据） ■聚焦市场，拉姆研究能否继续保持高速增长？1）竞争格局：半导体设备领域被国际五大巨头垄断，其中阿斯麦专注于光刻领域，科天半导体以检测设备为主。而在刻蚀、薄膜沉积设备等领域，则出现应用材料、东京电子、拉姆研究三强争霸的局面。从市场份额来看，拉姆研究和京东电子难分伯仲，其市场占有率所差无几，而应用材料所占据市场份则略微领先。从产品线上看，三大巨头有较大交集，拉姆研究和东京电子的半导体设备产品线基本类似。2）市场规模：半导体行业经历过家电需求驱动、个人PC需求驱动的两个大增长期，随着物联网、5G通信、AI、自动驾驶为代表的新技术蓬勃发展，将为半导体需求带来新一轮的增长机遇。 ■反观国内，国内如何将一流技术转化为高市场占有率？中微半导体、北方华创是国内一流刻蚀设备企业，其部分技术已达国际一流水准，但尖端技术尚有差距。在主流的高密度等离子刻蚀设备上，中微半导体的ICP、CCP刻蚀设备与拉姆研究的DRIE刻蚀设备效果相当，并且中微半导体的部分7纳米刻蚀机已实现量产，5纳米刻蚀机正在客户端接受检验。但在最尖端的ALE技术上，中微半导体尚未涉足，而拉姆研究的ALE已实现量产。在市场份额上，中微半导体尚有较大差距。国内设备厂商可以学习拉姆研究注重自主研发，紧跟先进制程，积极并购与整合，打造品牌形象，形成稳定的客户源，从而获得市场份额。 ■风险提示：半导体下行周期风险、竞争对手崛起风险 22546684/16850/20190918 14:42 3 新三板主题报告 本报告版权属于安信证券股份有限公司。 各项声明请参见报告尾页。 内容目录 1. 写在前面: 中微半导体登陆科创板，国产刻蚀机将如何崛起？............................................ 5 2. 纵观历史，如何从产品销售到全球战略整合？.................................................................... 5 2.1. 市场定位：沉积+刻蚀+去胶清洗三大产品，设备及服务双管齐下 .............................. 5 2.2. 发展历程：从产品销售到战略并购，从打通全球市场到全球资源整合........................ 6 2.3. 四大优势：技术+产品+团队+客户，助力拉姆研究占据刻蚀领域半壁江山.................. 8 3. 深究内核，如何内外兼修铸就技术护城河? ........................................................................ 8 3.1. 聚焦自主研发，引领ALD、ALE等新技术潮流.......................................................... 9 3.1.1. 研发投入高，占营业收入比例高达10%以上 .................................................... 9 3.1.2. 团队实力强，首席技术官在贝尔实验室专注科研15年 ..................................... 9 3.1.3. 核心技术尖，ALE等技术走在行业前沿并创下多个行业标准 .......................... 10 3.2. 并购与整合，进行产业链上外围技术及核心团队的扩充............................................11 4. 细看产品，如何打造强大产品竞争优势？......................................................................... 12 4.1. 刻蚀技术：DRIE、ICP是当下主流，ALE或将成为未来产业趋势 ........................... 12 4.2. 产品详情：技术优势+丰富的产品线，设备+服务的双重业务模式 ............................ 14 4.2.1. 刻蚀：广泛采用 DRIE技术，首创的ALE工艺实现业内最高生产率和选择比 15 4.2.2. 薄膜淀积：ECD+CVD+ALD，ALT US系列铸就钨薄膜生产率的行业基准....... 16 4.2.3. 去胶和清洗：六大产品系列，CORONUS系列为业内唯一的斜面清洁产品..... 18 4.2.4. 质量计量：提供实时监控和记录，质量测量精度可达亚毫克级 ....................... 20 4.2.5. 解决方案：提供9种解决方案，兼具产能优势与成本优势 .............................. 20 5. 回归数据，公司业绩如何实现稳步增长？......................................................................... 20 5.1. 总体业绩：净利润创历史新高，营业收入首次突破百亿美元.................................... 20 5.1.1. 业绩历经三大阶段，净利润实现五连增+营收实现六连增 ................................ 20 5.1.2. 毛利率稳定在45%左右，净利率呈现较大幅度波动 ........................................ 22 5.2. 区域构成：中、韩营收占比逐年增加，美国国内营收占比退至7% .......................... 22 5.3. 客户情况：拥有英特尔、台积电等大型优质客户，存储芯片厂商需求强劲............... 23 6. 聚焦市场，拉姆研究能否继续保持高速增长？.................................................................. 24 6.1. 竞争格局：半导体设备五强争霸，拉姆研究稳居刻蚀领域第一 ................................ 24 6.2. 行