长鑫科技在4F2 DRAM架构研发上取得关键进展,计划于2026年底推出融合4F2架构与混合键合技术的新一代DDR5 RDIMM产品,成为市场首发4F2架构商业化厂商。4F2存储单元理论面积约为当前主流6F2架构的2/3,采用自研VSG垂直包围沟道晶体管,通过垂直布局缩小晶体管平面占用、增强栅极对沟道的控制。G5平台已实现量产,有源区半间距缩小至11.95nm,对标海外1b/1β制程;4F2研发进一步推进存储单元架构迭代,与海外先进制程距离进一步拉平。
4F2架构作为存储单元技术的迭代方向,旨在通过缩小存储单元面积提升存储密度,是存储行业技术升级的重要路径。长鑫科技在4F2架构上的研发进展,标志着国产DRAM厂商在先进架构领域取得突破,推动国产DRAM向更高性能、更低成本方向发展。随着新架构与先进工艺逐步导入产品,预计将带动整个存储行业的技术革新,加速国产替代进程。
研报重点分析了长鑫科技在4F2 DRAM架构的技术进展,包括存储单元理论面积优化、VSG晶体管技术应用、G5平台量产情况等。同时关注公司计划于2026年底推出融合4F2架构与混合键合技术的新一代DDR5 RDIMM产品,以及使用180亿元超募资金投向技术研发及产业化、存储器晶圆后道测试基地二期等项目的研发与产业化投入。
当前存储市场对4F2架构的判断是,该架构有望成为下一代高性能DRAM的主流技术路线之一。长鑫科技的4F2研发进展,表明国产厂商已逐步缩小与海外先进制程的技术差距,推动国产DRAM在存储密度、单bit成本和性能上的持续优化。随着新架构的逐步商业化,预计将提升国产DRAM产品的市场竞争力,加速国产替代进程。
研报提示,长鑫科技4F2架构的研发与产业化仍面临技术迭代不确定性,包括新架构量产良率、混合键合技术成熟度等环节可能存在的挑战。此外,存储行业受市场需求波动、上游原材料价格波动等因素影响,需关注市场竞争加剧对产品定价和盈利能力的影响。