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国林科技机构调研纪要

2026-05-08 发现报告 机构上传
报告封面

调研日期: 2026-05-08 青岛国林科技集团股份有限公司是一家成立于1994年的高新技术企业,专注于臭氧发生机理研究、臭氧设备设计、应用工程方案设计、安装、调试、运行及维护。作为国内率先突破10kg/h、50kg/h、100kg/h、120kg/h大型臭氧发生器设计制造技术的企业,公司产品涵盖全系列臭氧发生器及臭氧系统设备,目前已广泛应用于市政给水深度处理、市政污水处理、工业废水处理、烟气脱硝、化工氧化等领域。国林科技还是中国城镇建设行业标准《水处理用臭氧发生器》(CJ/T322-2010)和《水处理用臭氧发生器技术要求》(GB/T37894-2019)的责任起草单位,并曾承担和参与了多个国家级科技课题,如国家十二五重大科技专项水专项中“非玻璃介质大型臭氧发生器设备研制及其产业化”课题和国家十三五重点研发计划“燃煤污染物(SO2、NOx、PM)一体化控制技术工程示范项目”中的“基于前置臭氧氧化的NOx与SO2协同吸收技术”课题。经过二十余年的发展,国林科技已成为全球知名的臭氧系统装备专业化生产企业,也是全球臭氧系统供应商。 投资者关系活动主要内容介绍 投资者提出的问题及公司回复情况 公司就投资者在本次说明会中提出的问题进行了回复: 1、请问刘总监,2026 年的一季度财务数据您最清楚,2026年的一季度,子公司国林半导体的营业收入及利润是多少?之前公司主动披露过 2025 年三季度的国林半导体的收入及利润情况。 尊敬的投资者,您好。公司具体经营情况请关注定期报告。感谢您的关注。 2、请问公司是否与北方华创、拓荆科技、盛美上海、华海清科等半导体领域的客户合作伙伴一起编制了《半导体级臭氧发生器技术要求 》? 尊敬的投资者,您好。该标准已发布实施。感谢您的关注。 3、公司不会一辈子都不公开半导体客户情况吧?未来是否会考虑在合适的时机对公司客户进行公开?尊敬的投资者,您好。公司部分商业信息属于公司商业秘密,符合信息披露的相关资料您可关注公司公告或其他官方渠道资料。感谢您的关注。 4、请问公司领导:公司乙醛酸在 25年经历反倾销风波后,税率提高到 57.3,2026 年这一块业务的拓展规划?尊敬的投资者,您好。2025 年欧盟对公司乙醛酸作出终裁并征收57.3%临时反倾销税,对欧出口形成一定压力,但公司乙醛酸对欧营收占比较低,整体影响可控。2026 年,公司将坚持"市场多元化、技术提质、降本增效" 的总体思路,稳步推进乙醛酸业务发展 。一是持续深耕国内化妆品、香兰素、医药、螯合肥等核心下游,稳定并提升国内市场份额;二是加快开拓其他海外市场,优化全球市场布局,降低单一区域贸易风险;三是加大工艺研发与技改投入,持续降本增效、提升产品纯度与稳定性,增强综合竞争力;四是密切跟踪国际贸易政策变化,做好合规经营与风险应对,保障业务长期稳定发展。感谢您的关注。 5、请问北方华创旗下的诺华资本以及北京集成电路体系,作为国林半导体重要的战略投资者,也是第二大股东,是否对国林半导体的发展起到了资源导入、市场推广、技术合作的作用?公司是否考虑对国林半导体引入新的战投对象?尊敬的投资者,您好。公司将根据企业实际发展需要及未来战略布局适时考虑融资计划,感谢您的关注。 6、公司半导体高纯臭氧设备目前在头部面板、晶圆厂的批量供货进度如何?进入国内主流晶圆厂的验证走到哪一步?今年半导体业务营收目标和毛利率大概维持在什么水平? 尊敬的投资者,您好。功能水类产品已经完全批量,与国内各大头部面板厂展开合作使用。半导体行业也配套主机设备实现批量出货,应用于国内头部或典型晶圆厂。感谢您的关注。 7、公司会倾注大量的资源与财力在半导体业务上吗?是否考虑引入战投或者战略合作?尊敬的投资者,您好。半导体业务为公司重点战略布局方向,目前产品验证、客户导入稳步推进,业务正稳步放量。公司将紧抓国产替代机遇,持续拓展市场、提升业务规模,具体经营情况请关注公司定期报告。感谢您的关注。 8、"工信部要求 2026.7 起新建晶圆厂国产设备≥50%,公司臭氧设备是否被强制标配、不可替代?在成熟制程(28nm 及以上)是否必须用国林、不能用 MKS?政策执行力度会不会随中美关系紧张而进一步加码?"尊敬的投资者,您好。子公司国林半导体目前所生产的各类产品在性能指标、功能参数等各方面与进口设备对标并部分优于进口设备,整体 产品性能达国际先进水平,可完全实现进口设备的国产化替代,部分产品已应用于半导体行业各品类的先进制程中。感谢您的关注。 9、"公司一季度已经扭亏,半导体业务 2026 年营收目标是多少? 尊敬的投资者,您好。公司2026 年一季度已实现扭亏为盈,各项业务正在稳步推进。半导体业务为公司重点战略布局方向,目前产品验证、客户导入稳步推进,业务正稳步放量。公司将紧抓国产替代机遇,持续拓展市场、提升业务规模,相关经营数据请关注公司定期报告。感谢您的关注。 10、请问公司半导体业务订单确认收入是否一般周期为 1年及以上?比如2025年的收入确认的大部分是2025年之前(2024)的订单。因为看到公司 2025 年1 月中标的京东方 900 万臭氧水订单,结果在 2025 年年报披露中,显示这 900 万都还属于应收账款,这是否是半导体行业的常规现象? 尊敬的投资者,您好。公司半导体业务订单收入确认以合同约定货物所有权转移交付为准,不同客户或不同项目均有区别,目前应收账款收款进度正常,不存在无法按期收回的情况。感谢您的关注。 11、公司半导体设备是否会考虑出口?主动对接海外客户?毕竟公司比起 MKS、日本住友相比,更具有价格优势?尊敬的投资者,您好。国林半导体公司掌握臭氧全部核心技术,真正国产非集成,成本较进口设备更具性价比,目前市场开拓主要以国内为主。感谢您的关注。 12、请问贵公司定向增发目前到哪一步了、已经报证监会了吗? 尊敬的投资者,您好。公司向特定对象发现股票目前尚处于预案披露阶段,具体进展情况敬请关注公司公告。感谢您的关注。 13、公司目前能够提供的半导体设备类型中的零部件系统,不分订单金额大小,只从技术上论证,包含所有的哪些设备?比如涂胶显影设备、清洗设备、cmp 抛光设备、薄膜沉积设备、蚀刻设备、退火设备、炉管设备?尊敬的投资者,您好。公司目前能够提供的半导体设备类型中的零部件系统,主要包括清洗设备、薄膜沉积设备、炉管设备、CMP 抛光设备等。感谢您的关注。 14、清洗类设备已经全部验证通过,薄膜沉积类设备预计上半年能够验证通过吗?除此以外,公司臭氧及机能水设备是否涉及到刻蚀设备、显影设备、抛光设备的验证? 尊敬的投资者,您好。子公司国林半导体目前清洗类设备现有客户全部通过验证,并且量产出货中,薄膜沉积类设备验证进度公司将积极跟进;公司臭氧及机能水设备广泛用在各环节工序与工艺的清洗中,比如表面氧化、晶圆清洗,减薄清洗、抛光清洗、划切清洗、刻蚀与涂胶显影清洗等。感谢您的关注。 15、请问公司的半导体臭氧设备在 DRAM 和 3D NAND 闪存制造中,是起到氧化前驱体的角色作用,沉积氧化铝 Al2O3、氧化钛TiO2等存储芯片关键材料吗?这是目前dram和3d nand闪存的主流先进工艺吗?尊敬的投资者,您好。主要有两种应用,一种是气体薄膜沉积,作为氧化前驱体的角色参与工艺反应,生成类似上述氧化物薄膜;一种是湿法清洗,起到洗净以及超低损伤的作用,随着制程级别的提高应用越广,是主流核心工艺之一。感谢您的关注。 16、公司机能水设备主要是用来生产超纯水(UPW),而超纯水在浸没式光刻机中作为浸没液,置于镜头与晶圆之间以提高光刻分辨率和成像质量。公司的超纯水机能水设备能否满足浸没式光刻机的浸没液的纯净度和电阻率? 尊敬的投资者,您好。国林公司生产的机能水,主要是"臭氧水、氨水、二氧化碳水",主要用作湿法清洗工艺中的清洗液体。感谢您的关注。 17、公司能否学习一下臻宝科技,它并非半导体主机设备厂,而是跟公司一样是半导体设备零部件及系统供应商。其在招股说明书中披露了它的半导体产品已经批量供应于20nm及以下DRAM先进工艺存储芯片制造,存储类 200 层及以上堆叠先进工艺 3d nand 闪存芯片制造。公司不愿意披露客户信息,但像上述技术实力是可以披露的。请问,公司半导体系统已经批量供应于多少nm以下 dram 存储芯片及多少层以上 nand 闪存芯片制造? 尊敬的投资者,您好。国林公司产品已经应用成熟制程与先进制程中,在先进存储芯片(3D NAND,232 层),3D 先进封装等应用,以及晶圆代工fab 厂中14-28nm 制程中均有应用。感谢您的关注。 18、薄膜沉积用臭氧发生器何时完成头部验证、批量出货?这一块市场空间多大、毛利率多少? 尊敬的投资者,您好。已经完成了国内薄膜沉积用臭氧发生器的头部装备企业验证,目前在部分企业已经小批量出货中;市场空间与毛利润 不便说明,请关注年报相关信息。感谢您的关注。 19、公司官网上的公司宣传片中,提到了公司为三星电子在中国西安的三星半导体存储芯片制造厂提供设备,请介绍一下该业务具体情况? 尊敬的投资者,您好。公司向三星项目提供臭氧系统设备用于工业污水/废水处理。感谢您的关注。 20、公司是否提供商业航天火箭精密器件精密清洗用陶瓷解决方案? 尊敬的投资者,您好。公司暂无商业航天火箭精密器件用陶瓷产品订单。感谢您的关注。 21、公司如何看待半导体制造受限于纳米极限,正式进入到埃米/原子时代?当器件尺寸缩小至数纳米时,传统依赖大块材料"自上而下 "微缩切削的方法开始面临严峻的物理边界与材料缺陷瓶颈。为此,以原子及近原子尺度制造(ACSM)为核心使能技术的第三代制造范式(Manufacturing III)应运而生,原子级制造也被视为重要的未来产业方向之一。请问公司的半导体臭氧设备是否具备原子级制的技术?具体是否涵盖原子层沉积? 尊敬的投资者,您好。当前半导体制造工艺持续向更小节点演进,逐步突破纳米尺度限制、迈入埃米及原子级新时代。随着芯片器件尺寸不断微缩,传统自上而下的光刻微缩工艺已遭遇物理极限、材料缺陷等多重瓶颈,行业发展逻辑正发生深刻变革,原子及近原子尺度制造已成为全球先进半导体制程发展的主流趋势与核心研发方向。公司目前所生产的臭氧系统设备及各类机能水系列设备,可满足半导体湿法清洗、薄膜沉积等工艺制程。公司将持续加大研发投入力度,紧跟半导体先进制程迭代趋势与行业技术发展方向,不断优化产品性能与工艺适配能力,抢抓行业发展机遇,持续提升在半导体配套设备领域的市场竞争力。感谢您的关注。 22、公司是否考虑进入更有价值的产业新领域?比如商业航天、人形机器人、光刻胶、光模块、液冷服务器、固态电池等?现在很多上 市公司都在搞多元化。多元化并不需要与公司原有主营设备与产品相关,最近 2 年很多上市公司的并购与战略投资,都是跳出原有业务范围,聚焦更有价值,更符合时代风口的领域。公司是否能够跳出"臭氧"主题,多考虑一些让上市公司更有价值的风口业务板块?尊敬的投资者,您好。公司将聚焦臭氧技术研发、臭氧设备制造及臭氧应用相关领域,同时,公司也会持续关注新兴行业,积极参与与臭氧技术相关领域的合作。感谢您的关注。 23、请问公司定向增发事宜进行到哪一步了?应该已在证监会核准流程了吧? 尊敬的投资者,您好。公司向特定对象发现股票目前尚处于预案披露阶段,具体进展情况敬请关注公司公告。感谢您的关注。 24、建议公司及时剥离亏损业务,如国林健康业务,以及国林新材料及凯涟捷的化工业务。通过股权剥离的方式,划转到丁董您的名下。上市公司主体聚焦臭氧全领域装备,以环保半导体双轮驱动,让公司的价值最大化。化工业务以及健康业务市场规模有限,且现阶段高度内 卷,与公司的臭氧装备关联度并不是那么强。 尊敬的投资者,您好。公司近年来围绕着臭氧技术及臭氧应用技术进行研发及产业孵化,包括板式臭氧发生技术、电解水式臭氧技术及臭氧氧化工艺应用等,目前板式臭氧发生器在半导体及泛半导体行业应用已