茂莱光学半导体光刻机业务交流转债项目规模5625亿绝大部分在项

核心观点与业务布局

• 募投方向：IPO募集资金全部投向国产光刻机，优先解决i线物镜镜片，后续攻克i线以上DUV制程。国家将DUV产业化提升至正式高度，目前处于中试及中试后阶段，规模与02专项（光学100亿）相当，重点突破测量镀膜和机加工技术，围绕三大能力构建，计划用3年建设+5年爬坡（对标ASML DUV 12年量产周期）。

业务板块与客户结构

• 半导体业务（55%-59%）：其中光刻和量检测占比3.8:6.2，最大客户为量检测公司CAMTEK（收入占比10%-14%），其次为康宁（通过上游材料垄断下游元器件）。前五大客户还包括上海微、中芯国际等。
• 光刻机业务：专注于曝光物镜镜片组（占曝光物镜价值量50%），是国内唯一商业化量产供应商。尝试向军工及国外光刻机公司供应整机镜头，推动高集成度模组化供应。

关键数据与交付情况

• i线量产：去年完成i线量产（后道封装），今年交付上海微前道用于逻辑、功率制程，i线产品趋于成熟，后续向DUV镜片组发展。2026年初将交付i线光刻机曝光物镜整机模组，价值量翻倍。
• DUV项目：与上海微、宇量晟、芯上微等合作，28nm样机已可用，248nm K线难度接近量产量检测设备，193nm更复杂，已与莱宝定购193nm镀膜机（镀膜第二重要，测量能力是核心）。
• 量检测业务：规模比光刻更大，现有i线替换及新增需求，266nm价值量不低于光刻i线。国内客户包括南京某公司、北京昂坤、飞测。
• 交付周期：产品装配验证存在周期，营收不会即时反映出货情况。向上海微交付持续进行（去年40套，今年上半年超100套）。

竞争与行业趋势

• 技术壁垒：ASML提供曝光物镜，蔡司镜头能力突出。产业链正向东亚转移，公司是国内唯一商业化量产曝光物镜镜片组的供应商。
• 02专项：宇量昇浸没式光刻机采用长光所镜片（正攻克量产），国旺装镜头。EUV项目有规划。