新凯来已开发6大类半导体工艺和量检测装备科创板日报27日讯在SEMI

装备新技术演进方向是更高能量控制精度、更快硬件响应速度、更大工艺窗口，以射频/等离子体场为例，预计从7纳米到3纳米的演进过程中，会有10倍的能量控制精度提升，时延 【新凯来：已开发6大类半导体工艺和量检测装备】科创板日报27日讯，在SEMICON China 2025 IC产业链国际论坛上，新凯来工业机器有限公司工艺装备产品线总裁杜立军表示，AI、智能驾驶等产业对算力需求及增长，推动半导体装备市场稳步增长。 装备新技术演进方向是更高能量控制精度、更快硬件响应速度、更大工艺窗口，以射频/等离子体场为例，预计从7纳米到3纳米的演进过程中，会有10倍的能量控制精度提升，时延从10毫秒缩短到1毫秒的硬件响应速度提升。 目前新凯来基于一代工艺、一代材料、一代装备的设计理念，已经开发了刻蚀产品、扩散产品、薄膜产品以及物理量测产品、X射线量测产品、光学量检测产品6大类工艺和量检测装备，覆盖先进逻辑和存储，支持向更先进节点演进。