国产刻蚀设备专家交流纪要20240509

Q1：ICP 技术领域内，国内厂商的竞争格局如何？ A1： 在 ICP(Inductive Coupled Plasma) 技术领 域，由于技 术门槛相对较低，竞争异常激烈。过去三年间， 国内厂商排名经历了一系列变 化，其中北方华创、中微公司、鲁汶仪器和北 京屹唐脱颖而出，成为行业内的佼佼者。鲁汶 仪器特别值得一提，它敏锐地捕捉到了北方华 创与中微公司尚未充分覆盖的市扬空隙，加大 了对 ICP 高难度工艺的研发投入，成功抢占了 更多的市场份额，展现了其在策略布局上的独到之处。 Q2：中微公司在国产刻蚀设备领域的地位如何？国产 CCP 技术的发展现状怎样？ A2：中微公司在国产刻蚀设备领域占据着无可争 议的领先地位，其技术实力和市场占有率 均显示出明显优势。另一方面，北方华创在 CCP (Capacitive Coupled Pla CCP 设备尚无法完全满足存储芯片制造的高端技术需求，这也是国产设备亟待突破的难 关。 Q3：国产刻蚀设备与海外设备的技术差距体现在哪些方面？市场需求如何？ A3：国产刻蚀设备在核心技术如 ESC(Endpoint Detection System ) 与电源系统方面与国际先 进 水平存在差距，大致落后 2-3 代。市场需求层 面，国内晶圆厂的快速扩产为国产刻蚀设 备提 供了广阔的市场空间。然而，在存储芯片制造 这一细分领域，国产设备在先进工艺上 的不足 限制了其市场应用，表明在提升技术工艺水平上仍有很长的路要走 Q4：国产刻蚀设备零配件的国产化程度如何？哪些领域是投资的重点？ A4： 当前，国产刻蚀设备零配件的国产化率较 低，不足 50%，尤其是在关键零配件方面，国产化进程缓慢。投资方向上， ESC 系统和电源系 统被视为重点。例如，华卓和君原两家公司在 ESC 系统的开发上展示出良好的发展前景；而对 于射频电源，尽管当前国产水平不 高，深圳恒 运昌公司因其潜力被寄予厚望，有望在这一领域实现突破。 Q5： 美国对零部件的出口限制对国产刻蚀设备的影响有多大？ A5：虽然美国对关键零部件的出口限制不断升 级，但由于目前 5 纳米以下先进工艺的应用 场景相对有限，大部分国产部件已经能够覆盖约 80%的常规使用场景，因此美国的限制措 施并未对国产刻蚀设备的发展构成致命打击。但这依 然警示国内厂商需要加快核心技术的自主研发，减少对外依赖。 Q6： 原子层刻蚀技术的现状与未来挑战是什么？ A6：原子层刻蚀技术已经投入实际应用，但其未 来发展面临原材料供应 不稳定、成本控制以及 技术持续创新等挑战。从客户需求出 发，无论 是 ICP 还是 CCP 技术，未来的技术发展方向将 聚焦于提高功率水平，实现超低温 与超高温处 理能力，以满足更精密、更复杂的半导体制造需求，这将是国产设备厂商持续努力的方向。