上海光刻胶工厂已竣工，ArF光刻胶填补国产空白

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彤程电子在上海新建的年产1.1万吨光刻胶、平板显示光刻胶及2万吨相关配套试剂项目已竣工，并进入了试生产阶段。该工厂主要生产半导体光刻胶，计划形成每年1000吨的产能，其中包括年产300/400吨的ArF及KrF光刻胶。为了保证产品质量，工厂采用了先进的设备和技术，如超高纯度的PFA涂层设备、高精度的物料流量控制系统和自主研发的高精度高效率光刻过滤系统，能够实现ppb级别金属杂质及0.1微米级别的颗粒控制，具备生产各种配方的先进制程光刻胶的能力。

彤程电子全面布局半导体光刻胶市场，已经在国内G/i线光刻胶领域取得了一定的市场份额，并广泛应用于6英寸、8英寸和12英寸集成电路生产线，涵盖了14纳米及以上工艺。在KrF光刻胶方面，公司已经拥有超过20种产品，稳定供应给国内的主要芯片制造商。ArF光刻胶方面，公司已完成部分型号的开发，并具备量产能力，目前正在进行量产前的光刻工艺测试和产品验证，以满足国内先进制程光刻胶的需求。

随着全球光刻胶市场的持续增长，特别是中国大陆市场的快速扩张，以及KrF和ArF光刻胶在半导体光刻胶市场中的重要性，中国本土光刻胶的国产化替代机会巨大。据SEMI统计，2022年全球光刻胶市场规模为26.4亿美元，同比增长6.82%，而中国大陆市场增长率高达20.47%，达到5.93亿美元。KrF和ArF光刻胶在半导体光刻胶市场中的占比分别为34.7%和48.1%，但其国产化率分别不足5%和1%，显示出巨大的国产替代潜力。

作为国内领先的半导体光刻胶供应商，彤程电子有望从这一趋势中获益。预计公司2023至2025年的净利润分别为4.30亿、5.24亿和6.24亿元，对应的市盈率分别为5、42.2和35.4倍，考虑到公司的市场地位和增长前景，维持对其“买入”的评级。然而，投资者需关注产品验证进度、下游需求和产能建设等方面的不确定性风险。