ASML光刻机出口限制落地，好于市场预期，国产替代有望重新加速。荷兰政府的出口管制只涉及“最先进”设备，即TWINSCAN NXT：2000 i及之后的浸没式光刻系统。这对于国内晶圆厂来说是一个好消息，因为可以采购到满足14-28nm工艺的光刻机设备，晶圆厂的扩张有望重回正轨。此外，国内的其他前道设备厂及材料零部件供应商也有望重回加速渗透的阶段，产业链上下游有望持续受益。国产光刻胶也在加速突破，半导体材料国产替代有望再加速。建议关注半导体设备、材料、零部件的国产替代加速。
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