请务必阅读正文之后的信息披露和法律声明 [Table_Main] 证券研究报告 | 公司首次覆盖 拓荆科技(688072.SH) 2022年06月30日 买入（首次） 所属行业：电子 当前价格(元)：148.50 证券分析师 陈海进 资格编号：S0120521120001 邮箱：chenhj3＠tebon.com.cn 倪正洋 资格编号：S0120521020003 邮箱：nizy＠tebon.com.cn 研究助理 杨云逍 邮箱：yangyx＠tebon.com.cn 市场表现 沪深300对比 1M 2M 3M 绝对涨幅(%) 4.72 28.57 106.59 相对涨幅(%) -5.77 15.81 100.02 资料来源：德邦研究所，聚源数据 相关研究 拓荆科技（688072.SH）：半导体薄膜沉积设备国产龙头扬帆起航a 投资要点  拓荆聚焦薄膜沉积设备，突破海外垄断。拓荆科技主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线。公司核心技术人员具有海外设备厂商的丰富工作经验，带领公司PECVD产品突破海外厂商垄断。  薄膜沉积设备市场空间大，拓荆具有领先优势。薄膜沉积设备约占前道半导体设备投资额的25%，是半导体设备中的重要细分品类。根据Maximize Market Research统计，2020年全球薄膜沉积设备市场规模在172亿美元，并预计2025年达到340亿美元，复合增速为14.6%。根据Gartner数据，在薄膜沉积设备市场中，PECVD份额占比近三分之一。2022年1-5月，我们统计发现拓荆科技在国内薄膜沉积设备中标份额快速上升到14%，领先于其他国内厂商。  进军先进制程，公司逐步成长为薄膜沉积平台型公司。公司IPO募集资金将投资于高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目。截至2021年9月，公司在国内外和其他地区已授权专利共计169件，核心技术有8项，其中大部分专利和核心技术可以在PECVD、ALD、SACVD这三种产品上适用。公司募投项目的投资建设将进一步增强公司在先进制程薄膜沉积设备的实力。  投资建议。我们预计公司将在2022年至2024年实现收入12.77/18.30/25.43亿元，对应当前PS估值14.7/10.3/7.4倍；归母净利润1.33/2.33/3.67亿元，对应当前PE估值140.9/80.5/51.1倍。考虑半导体设备行业高增长、公司产品的稀缺性以及竞争实力，首次覆盖给予“买入”评级。  风险提示：公司新产品研发进度不及预期、客户对公司设备验收周期过长、下游晶圆厂扩产放慢、半导体设备行业竞争加剧风险。 [Table_Base] 股票数据 总股本(百万股)： 126.48 流通A股(百万股)： 26.17 52周内股价区间(元)： 89.71-161.90 总市值(百万元)： 18,782.10 总资产(百万元)： 2,887.62 每股净资产(元)： 12.45 资料来源：公司公告 [Table_Finance] 主要财务数据及预测 2020 2021 2022E 2023E 2024E 营业收入(百万元) 436 758 1,277 1,830 2,543 (+/-)YOY(%) 73.4% 74.0% 68.5% 43.3% 39.0% 净利润(百万元) -11 68 133 233 367 (+/-)YOY(%) 40.7% 696.1% 94.7% 74.9% 57.5% 全面摊薄EPS(元) 0.00 0.72 1.05 1.84 2.91 毛利率(%) 34.1% 44.0% 46.3% 45.5% 45.7% 净资产收益率(%) -1.0% 5.7% 9.8% 14.7% 18.8% 资料来源：公司年报（2020-2021），德邦研究所 备注：净利润为归属母公司所有者的净利润 -40%-20%0%20%40%60%80%100%2021-062021-102022-02拓荆科技沪深300 公司首次覆盖 拓荆科技（688072.SH） 2 / 24 请务必阅读正文之后的信息披露和法律声明 内容目录 1. 聚焦薄膜沉积设备领域，突破海外垄断 ....................................................................... 5 1.1. 国产薄膜沉积设备先锋，技术实力出众 ............................................................ 5 1.2. 公司股东背景丰富，高管团队具备丰富的产业背景 .......................................... 6 1.3. 营业收入、毛利率稳定增长，高强度研发投入助力未来长期发展 ..................... 7 2. 薄膜沉积赛道空间大，拓荆具有领先优势 ................................................................. 11 2.1. 半导体设备市场需求持续强劲 ......................................................................... 11 2.2. 薄膜沉积设备是半导体设备中重要赛道 .......................................................... 13 2.3. PECVD是主流薄膜沉积设备，ALD面向先进制程应用 .................................. 14 2.4. 国际大厂垄断CVD设备，拓荆实现突破 ........................................................ 16 3. 进军先进制程，逐步成长为薄膜沉积平台型公司 ...................................................... 18 3.1. 募投项目加码先进制程薄膜沉积设备 .............................................................. 18 3.2. 薄膜沉积设备平台型企业逐步成型 .................................................................. 19 4. 盈利预测 .................................................................................................................... 21 5. 风险提示 .................................................................................................................... 22 公司首次覆盖 拓荆科技（688072.SH） 3 / 24 请务必阅读正文之后的信息披露和法律声明 图表目录 图1：拓荆科技发展历史 .................................................................................................. 5 图2：拓荆科技股权结构及主要股东（数据来自公司上市公告书） ................................. 6 图3：拓荆科技营收与归母净利润（亿元） ..................................................................... 7 图4：拓荆科技扣非归母净利润有小幅亏损（亿元）....................................................... 7 图5：拓荆科技主营业务营收构成.................................................................................... 8 图6：拓荆科技前五大客户营收占比 ................................................................................ 8 图7：拓荆科技销售毛利率 .............................................................................................. 8 图8：拓荆科技各产品销售毛利率.................................................................................... 8 图9：拓荆科技设备销售单价（万元/平台） .................................................................... 9 图10：拓荆科技设备销售单价（万元/平台+反应腔） ..................................................... 9 图11：拓荆科技费用率 .................................................................................................... 9 图12：拓荆科技研发费用（亿元）及营收占比 ............................................................... 9 图13：公司合同负债随着预收款增长而上升（亿元）................................................... 10 图14：公司发出商品金额随订单规模增长而上升（亿元） ........................................... 10 图15：全球及中国半导体设备销售额 ............................................................................ 11 图16：全球前道半导体设备投资额占比 ........................................................................